半导体、电子洁净厂房设计与施工要求

这个表格是我们半导体制造一些工艺生产过程的洁净等级要求，要求一般的是光照制造，还有微环境，其他的一些大的区域，包括薄膜等在百级。洁净度的要求是不是越高越好，这个主要还是决定我们的设计，或者对生产的要求，洁净度越高意味着FFU覆盖率会成倍的增加。目前对一些洁净室的设计还是大环境，不需要很高的洁净度。还有湿度控制，湿度控制主要通过循环通气冷却系统，去除洁净室循环空气的显热，*终控制洁净室温度。湿度控制主要通过新风控制箱进行控制，温度的控制目的有两个，首先是人员的舒适性，温度在21-23度都没有问题，作为制程来说我们关注的是波动性。控制洁净房的湿度主要目的是湿度过低将容易产生静电、湿度过高，对产品的影响。第二点是正压，通过洁净室内的压力传感器控制MAU风机的频率改变送风量保持洁净室的设定正压，静压层保持微正压。

再来就是照度和噪声，这个部分在新的标准里面有详细的描述，这里不具体讲了。因为现在半导体制造设备尺寸越来越大，安装起来一部分照明会被遮掩，噪声的问题比较难解决，主要在设备选型的时候注意。接下来是静电控制的问题(ESD)，这个本身会造成产品的损害或者设备的损害，半导体有ESD的标准。

广东鸿越净化设备实业有限公司在各产业领域工程建设的道路上继续坚持以科技为向导，以质量为准则，以客户满意为宗旨，严格遵守和落实ISO9001:2000标准、《洁净厂房设计规范》以及规范要求，全过程项目管控，以项目类型为定调，定制化项目设计、实施的全产业化流程，解决客户痛点，凭借自身的技术及经验为客户提供完备的环境控制工程整体系统集成解决方案的服务。